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  • 高低溫循環(huán)器30L-50℃~250℃

    應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫循環(huán)器30L-50℃~250℃

    更新時間:2024-12-26

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  • 密閉高低溫循環(huán)裝置(實驗型)

    應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。密閉高低溫循環(huán)裝置(實驗型)-SUNDI-420W

    更新時間:2024-12-26

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  • 制冷加熱循環(huán)裝置(實驗室使用)

    應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱循環(huán)裝置(實驗室使用)-50℃ ~ 250℃

    更新時間:2024-12-26

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  • 加熱制冷控溫系統(tǒng)反應(yīng)設(shè)備配套使用

    應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。加熱制冷控溫系統(tǒng)反應(yīng)設(shè)備配套使用-80℃ ~ 250℃

    更新時間:2024-12-26

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  • 全密閉制冷加熱循環(huán)裝置-60℃ ~ 250℃

    應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。全密閉制冷加熱循環(huán)裝置-60℃ ~ 250℃

    更新時間:2024-12-26

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  • 高低溫冷卻循環(huán)器-40℃~200℃拖二

    應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫冷卻循環(huán)器-40℃~200℃拖二

    更新時間:2024-12-26

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